掲載日：2018.01.30

▲大型金属酸化物膜室温原子層コーティング装置

　山形大学学術研究院 廣瀬文彦 教授（ナノテクノロジー・デバイス工学）らは、科学技術振興機構（JST）大学発新産業創出プログラム（START）とその事業プロモーターである野村ホールディングス株式会社の支援を受けて、世界最大クラスの室温金属酸化膜原子層コーティング装置を開発しました。従来、金属酸化膜の原子層コーティングは半導体製造での絶縁膜形成で活用されていましたが、300℃程度の熱処理が必要とされていました。
　廣瀬教授らは、これを室温（25℃）まで低温化することに成功し、半導体のみならず、熱に弱い電子部品や精密機械に適用することで部品を長寿命化させ、耐腐食性と向上させる研究を続けてきました。この度、JSTの支援をうけてコーティング装置を1ｍ規模まで大型化することに成功し、小さな電子部品であれは数千個程度、1ｍ規模の長尺な部品を一括処理することが可能になり、小規模の量産現場での使用が可能になりました。本技術は有機ELのフレキシブル化・長寿命化にも活用が期待されます。本技術は平成30(2018)年2月14日から16日まで東京ビッグサイトで行われる新機能性材料展2018で公開されます。

　詳しくは、こちらの資料をご覧ください。

関連リンク

• 廣瀬研究室ホームページ
• 工学部／大学院理工学研究科ホームページ
• 科学技術振興機構（JST）大学発新産業創出プログラム（START）

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